PatMax RedLine 패턴, PatMax 패턴, PatMax RedLine 패턴(1-10) 및 PatMax 패턴(1-10) 위치 도구 - 설정 탭

감지할 모델 패턴의 인스턴스 수를 정의합니다(1-10; 기본값 = 1). 대부분의 경우 한 개의 고정물만 필요하지만, 모델 패턴의 여러 인스턴스를 찾을 수 있습니다. 이는 영상에 한 개 이상의 부품 또는 개체가 있는 응용 프로그램에 유용합니다. 도구에서 식별해야 하는 트레이닝된 인스턴스가 많을수록 도구의 실행 시간이 길어집니다.

모델 패턴과 발견된 패턴 사이에 존재해야 하는 유사성의 정도를 정의합니다(0-100; 기본값 = 50). 발견된 패턴 중 설정치와 같거나 이를 초과하는 패턴은 일치로 간주됩니다. 이 도구는 모델 패턴과 발견된 패턴 사이에 더 높은 유사성을 요구하는 높은 설정치에서 더 빨리 실행됩니다. 설정치가 낮을수록 모델 패턴과 유사하지만 동일하지 않은 패턴이 감지되는 것 같이 그다지 정확하지 않은 결과가 나타날 가능성이 높습니다.

발견된 패턴에 반드시 존재해야 하는 최소한의 허용 대비를 정의합니다. 발견된 패턴의 대비가 대비 임계치 값보다 커야 유효한 인스턴스로 인정됩니다. PatMax RedLine 패턴의 경우 기본값은 0이고 유효한 매개변수 범위는 0 - 100입니다. PatMax 패턴의 경우 기본값은 10이고 유효한 매개변수 범위는 0 - 255입니다. 대비가 작은 영상에는 낮은 대비 임계치 값을 사용하고, 대비가 큰 영상에는 높은 대비 임계치 값을 사용합니다.

발견된 패턴이 모델 패턴의 위치에서 멀리 떨어져서 회전하더라도 유효한 패턴으로 인식될 수 있는 정도를 정의합니다(± 0-180°, 기본값 =15°). 패턴의 회전 편차 범위를 넓게 허용할수록 도구의 실행 시간이 증가합니다.

발견된 패턴과 모델 패턴 사이의 허용 가능한 축척(크기 변동) 백분율을 정의합니다(0 - 50, 기본값 =0). 값은 양수 또는 음수 백분율입니다. 즉, 값이 5이면 이 도구는 모델 패턴 크기의 95%에서 105%에 포함되는 패턴을 찾을 수 있습니다. 패턴의 축척 편차 범위를 넓게 허용할수록 도구의 실행 시간이 증가합니다.

PatMax 또는 PatQuick 패턴을 트레이닝하고 인식하는 데 사용되는 검색 모드를 정의합니다. 기본적으로 PatMax가 선택됩니다. PatMax는 PatQuick보다 정확도가 높지만 실행 시간이 더 걸리는 반면, PatQuick은 PatMax보다 정확도가 떨어지지만 실행 시간이 짧습니다.

발견된 패턴에서 누락된 특징 또는 폐쇄된 특징이 점수에 영향을 미치는지 여부를 지정합니다(기본값 = 끄기, 선택 해제). 엄격한 채점을 적용하면(켜기, 선택), 패턴의 특징이 차단되거나 누락된 경우 발견된 패턴의 점수가 낮아집니다.

모델 패턴과 관련하여 발견된 패턴이 색역전 일치 특징을 포함할 수 있는지 여부를 정의합니다(기본값 = Off, 체크 안 함). 극성 무시가 적용된 경우(On, 체크함), 모델 패턴의 흑/백 대 백/흑 같은 색역전 특징을 가진 감지된 패턴은, 예를 들어, 모델 패턴과 일치하는 것으로 분류됩니다.

발견된 패턴의 정렬 방식을 점수(기본값), X 또는 Y로 정의합니다. 점수를 선택하는 경우, 발견된 패턴을 점수 기준으로 정렬하여 가장 높은 점수를 받은 패턴을 첫 번째로 표시하고 이후 내림차순으로 후속 패턴을 나열합니다. X가 선택된 경우, 발견된 패턴이 X축으로부터의 거리를 기준으로 정렬되며, 가장 가까운 것에서 가장 먼 것까지 내림차순으로 정렬됩니다. Y가 선택된 경우, 발견된 패턴이 Y축으로부터의 거리를 기준으로 정렬되며, 가장 가까운 것에서 가장 먼 것까지 내림차순으로 정렬됩니다.

트레이닝된 모델 패턴과 관련하여 발견된 패턴의 중앙에서 수평 오프셋 위치(픽셀로 측정)를 정의합니다. 이렇게 하면 모델 패턴의 중앙에서 떨어진 좌표를 지정할 수 있으며 이는 비전 유도 로봇 응용에서 선택점을 정의하는 데 유용합니다.

트레이닝된 모델 패턴과 관련하여 발견된 패턴의 중앙에서 수직 오프셋 위치(픽셀로 측정)를 정의합니다. 이렇게 하면 모델 패턴의 중앙에서 떨어진 좌표를 지정할 수 있으며 이는 비전 유도 로봇 응용에서 선택점을 정의하는 데 유용합니다.

발견된 패턴 중앙의 X, Y 좌표 및 해당 각도 방향뿐만 아니라 모델 패턴에 대한 상대적인 점수도 표시합니다. 수평 및/또는 수직 오프셋이 적용된 경우, X, Y 좌표가 오프셋 필드에 지정된 양에 따라 조절됩니다.